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纳米金颗粒-用Litesizer 500测试粒度和Zeta电位

点击次数:1620  更新时候:2025-06-03

5 nm微米金小粒(li)(li)比率(lv)ꦦ煽动峰缩小挨近(jin)为由(you)粒(li)(li)度分(fen)布,Zeta电势差(cha)-48.28 mV显现出(💜chu)高相(xiang)同(tong)性;检验(yan)数据(ju)分(fen)析(xi)数据(ju)误差(cha)小,确定靠(kao)得下(xia)可不间断结果(guo)。



1.先容

微(wei)米(mi)金粉(fen)(fen)末因为(wei)有有点的(de)(de)电(dian)学(xue)、光学(xue)玻璃和热(re)学(xue)性(xing)(xing)格(ge),触及电(dian)学(xue)、电(dian)化(hua)学(xue)、动物和医药(yao)学(xue)二个(ge)基(ji)本(ben)原(yuan)则影(ying)起存(cun)眷。但是(shi)因为(wei)有是(shi)坚决不(bu)会改变(bian)和无毒性(xing)(xing)的(de)(de),有潜力股用(yong)(yong)以(yi)用(yong)(yong)量(liang)和转表观(guan)遗传方(fang)位(wei)[1][2]。在曩昔的(de)(de)数(shu)百年里,静态变(bian)量(liang)光散(san)(san)射(DLS)作罢为(wei)测量(liang)固体微(wei)米(mi)粉(fen)(fen)末粒状(zhuang)的(de)(de)那种时兴的(de)(de)方(f༺ang)式。而电(dian)泳光散(san)(san)射(ELS🅺)被最广泛用(yong)(yong)以(yi)可能(neng)飘浮(fu)液中微(wei)米(mi)粉(fen)(fen)末的(de)(de)不(bu)会改变(bian)性(xing)(xing)[3]。在这儿(er)篇用(yong)(yong)上报中,我们经过期间安(an)东帕Litesizer 500测试仪(yi)器用(yong)(yong)DLS和ELS人生(sheng)道理,来可能(neng)2 nm-10 nm微(wei)米(mi)金粉(fen)(fen)末的(de)(de)固体不(bu)会改变(bian)性(xing)(xing)。

2.成功

从Nanocs推销产品2 nm、5 nm和(he)10 nm微米金(jin)颗(ke)粒物存(cun)储(chu)(chu)存(cun)款液(ye)。对目数各(ge)(ge)种(zhong)公(gong)测(ce),存(cun)储(chu)(chu)存(cun)款液(ye)用NaCl(2 mM)溶缩到0.05 mg/mL并滤水(Whatman 200 nm针孔滤水器(qi))。DLS各(ge)(ge)种(zhong)公(gong)测(ce)用石英砂样本池在(zꦛai)25 ℃温(wen)差、90°散射角基本原(yuan)则下停掉。聚焦点整体素质和(he)高速(su)运转2次(ci)由设备自主选购配(pei)置。任1个各(ge)(ge)种(zhong)公(gong)测(ce)重(zhong)复(fu)多(duo)次(ci)七次(ci)(共有是四次(ci))。

对(dui)Zeta电(dian)(dian)势差(cha)(cha)测量(liang)(liang)(ᩚᩚᩚᩚᩚᩚ⁤⁤⁤⁤ᩚ⁤⁤⁤⁤ᩚ⁤⁤⁤⁤ᩚ𒀱ᩚᩚᩚliang),存储液(ye)用(yong)磷酸二氢钠(na)缓冲器液(ye)(0🍌.1 mM)果汁(zhi)到(dao)0.05 mg/mL。ELS在室(shi)内温度25 ℃下,用(yong)安(an)东帕私人定制的Ω自己(ji)的外观Zeta电(dian)(dian)势差(cha)(cha)样机池(与规范化(hua)的U形池类(lei)比,Ω样机池更能保(bao)护达到(dao)不改而高重(zhong)新的测量(liang)(liang)(liang)成(cheng)效[4]。很久测量(liang)(liang)(liang)在200 V电(dian)(dian)阻值下运行(xing)业务200次,任两个(ge)测量(liang)(liang)(liang)频繁(fan)两次(大概是四(si)次)。

3.重大成就与会商

DLS测(ce)(ce)试软件效(xiao)果如表1如下。5 nm和10 nm粉末(mo)的(de)正(zheng)规(gui)测(ce)(ce)量数(shu)据(ju)误差必然小(约(yue)1%),而最低的(de)粉末(mo)正🌟(zheng)规(gui)测(ce)(ce)量数(🌱shu)据(ju)误差更强(qiang)(2 nm粉末(mo)为(wei)5.4 %)。

                                 ꦦ                               表1DLS测量的(de)纳(na)米技术(shu)金磨料粒度(du)

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5 nmnm金颗粒(li)物(wu)的(de)粒(li)径(jing)造谣通过三(san)类差的(de) 兼(jian🐼)顾内容力(li)度、占地和(he)个数,分别示(shi)于图1、图2和(he)图3。


光强粒径散布(图1)显现一个绝对宽的峰,标明纳米金颗粒能够产生团圆。转换到体积粒径散布(图2),峰变窄并且峰地位挪动到靠近名义粒度巨细。转换到数目粒径散布(图3),峰进一步变窄并且峰地位加倍靠近名义粒度。

是以,以顆粒数(shu)额的(de)(de)表现的(de)(de)大(da)大(da)多数(shu)都 试品(pin),包罗的(de)(de)顆粒直劲很近5 nm。10 nm和𝔉5 nm奈米金顆粒精确测(ce)量(liang)的(de)(de)Zeta电(dian)势离别是-18.68 ± 1.01 mV和-48.28 ± 4.35 mV(表2)。10 nm软(ruan)件(jian)检(jian)测(ce)一(yi)系(xi)列突(tu)(tu)显(xian)于图4。每(mei)件(jian)事的(de)(de)六个软(ruaജn)件(jian)检(jian)测(ce)突(tu)(tu)显(xian)一(yi)种(zhong)卫生而削铁如泥的(de)(de)峰(feng),峰(feng)之前确定误差小标上软(ruan)件(jian)检(jian)测(ce)是靠受得了(le)从而可重复的(de)(de)。